フルオラス科学研究会
フルオラス（fluorous）とは「親フルオロカーボン性の」という意味の造語です。
1994年にHorvathとRabaiがScience誌に発表した含フッ素配位子を持つRh触媒を用いたヒドロホルミル化に関する論文で使いだしたのが最初です(Horvath, I. T.; Rabai,
J. Science 1994, 266, 72)。フッ素含量の高い化合物は一般的な有機溶媒や
水にはほとんど溶解せず、フルオラス溶媒にはよく溶けます。この性質を利用すれば、
ペルフルオロアルカンやペルフルオロアルキル基を溶媒あるいは触媒や生成物の
置換基（タグ）などとして用い、相分離による抽出・精製が可能です。
1994年以降、有機合成化学のみならず生化学の分野においても
親フルオロカーボン性を活用する様々な試みがなされてきましたが、
現在では含フッ素化合物のフッ素特性を活かした様々な研究においても
フルオラス性という言葉が使われています。
フルオラス科学研究会は、フルオラス科学および技術の発展に寄与する情報交換ならびに人的交流を目的とし、
前身のフルオラス研究会の活動を受け、さらなる発展を目的として２００８年に
設立されました。以後、会員相互の情報交流とフルオラス科学への貢献をめざして
活動をしています。
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入会のご案内
フルオラス科学は、生成物の分離・精製や触媒の回収を容易にする新たな有機合成手法として注目されています。
また、フルオラス科学は種々の反応プロセスをグリーン化できる技術であり、その実用化は化学工業の環境負荷低減に大きく貢献する可能性を秘めています。
フルオラス科学研究会では、シンポジウムや研究会の開催等を通じて、フルオラス科学および技術に関わる研究者・技術者間の意見交換・情報交流を活発に推進してまいりたいと存じます。
つきましては、フルオラス科学および技術にご興味をお持ちの方々に、産官学を問わず幅広くご入会いただきたく、ご案内申し上げます。
入会ご希望の方は、以下の会則をご高覧の上、下記の入会申込方法によりお申し込みください。
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| フルオラス科学研究会会則 |
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本会はフルオラス科学研究会と称する。 |
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本会は、フルオラス科学および技術の発展に寄与する情報交換ならびに人的交流を目的とする。 |
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本会に会長および若干名の評議委員をおく。 |
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会長は会員の互選により選出する。任期は１年とし、再任は妨げない。 |
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評議委員は会長が選出する。 |
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本会の運営は、会長および評議委員が行う。 |
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本会の事務局は公益財団法人野口研究所に置く。 |
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本会は、年に１回の定例シンポジウムを開催する。その他必要があれば随時研究会・シンポジウムを開催する。 |
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本会のホームページ上には、会員の書き込みによる情報交換（文献紹介、関連シンポジウムの案内、フルオラス製品の紹介等）の場を設ける。 |
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本会の年会費は、個人会員２千円、賛助会員５万円とする。 |
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本会の会計年度は、毎年４月１日から翌年３月末日までとする。 |
| 入会申込 |
| 個人会員 |
こちらの入会申込フォームからどうぞ。
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| 賛助会員 |
こちらの入会申込用紙にご記入の上、メール添付・ファックス・郵送のいずれかにより、事務局までご送付ください。
← マークをクリックしてダウンロードしてください
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お問合せ先
フルオラス科学研究会事務局
173-0003 東京都板橋区加賀１－８－１
公益財団法人 野口研究所
TEL: 03-3961-3255
FAX: 03-3964-4071
E-mail:fluorous[at]noguchi.or.jp （「[at]」を「@」に変えてください）
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掲示板へ
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フルオラス関連の文献、シンポジウム、製品等の情報をお寄せください
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反映には若干のお時間がかかる事がございます。予めご了承ください。
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| Fluorous Topics |
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ビス（トリフリル）メチル基をもつ強酸性炭素酸 / Strongly Acidic Carbon Acids Bearing Bis(triflyl)methyl Groups
名古屋大学大学院工学研究科 石原一彰 / Kazuaki Ishihara, Graduate School of Engineering, Nagoya University
Bis(triflyl)methyl group is an appealing acidic functionality for development of novel Brønsted acid catalysts. Yanai and Taguchi et al. have reported that 1,1,3,3-tetrakis(triflyl)propane performs as an excellent catalyst for several carbon–carbon bond forming reactions using silicon enolates
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Ruppert-Prakash 試薬(CF3SiMe3)の新しい使い方 / New Applications of Ruppert-Prakash Reagent (CF3SiMe3)
群馬大学大学院理工学府 網井秀樹 / Hideki Amii, Division of Molecular Science, Graduate School of Science and Technology, Gunma University
This report focuses on the recent studies on synthetic applications of Ruppert-Prakash reagent (CF3SiMe3). To date, trifluoromethyl(trimethyl)silane have been utilized as a nucleophilic trifluoromethylating agent. Herein, several elegant examples of selective transformation using CF3SiMe3 as difluorocarbene and siladifluoromethyl sources are showcased.
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gem-ジフルオロシクロプロパン誘導体の合成、機能材料と医薬応用 / gem-Difluorocyclopropanes: Applications for Material and Medicinal Sciences
鳥取大学大学院工学研究科 鳥取大学GSC研究センター 伊藤 敏幸 / Toshiyuki Itoh, Graduate School of Engineering, Center fro Research on Green Sustainable Chemistry, Tottori University
We have been synthesizing gem-difluorocyclopropane compounds and revealed their unique physical- and biological properties; we now have a rich library of numerous types of gem-difluorocyclopropanes. We next accomplished synthesizing novel gem-difluoromethylene compounds through the radical type regioselective allylation with ring opening reaction of gem-difluorocyclopropanes.
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フルオラス化合物と光反応 / Fluorous Compounds in Photoreaction
岐阜薬科大学 伊藤彰近 / Akichika Itoh, Gifu Pharmaceutical University
Reactivity of fluorous compounds in photochemistry is not well known. Against such a background, utility and syntheses of fluorous compounds under photoreaction condition were examined in our laboratory, and found several reactions. Herein, aerobic photooxidative oxylactonization with fluorous compounds and direct C-H perfluoroalkylation with photoredox organocatalyst are reported.
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| ISoFT（International Symposium on Fluorous Technologies） |
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第６回：International Symposium on Fluorous Technologies 2015(ISoFT'15)
(held jointly with the 21st International Symposium on Fluorine Chemistry)
August 23-28, 2015, Como, Italy |
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第５回：International Symposium on Fluorous Technologies 2013(ISoFT'13)
June 2-5, 2013, Budapest, Hungary |
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第４回：International Symposium on Fluorous Technologies 2011(ISoFT'11)
November 30-December 3, 2011, Hong Kong |
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第３回：International Symposium on Fluorous Technologies 2009(ISoFT'09)
（in conjunction with ｔhe 19th International Symposium on Fluorine Chemistry ）
August 23-28, 2009, Jackson Hole, Wyoming, USA |
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第２回：International Symposium on Fluorous Technologies 2007(ISoFT'07)
July 29-August 1, 2007 Yokohama-Kamakura, Japan |
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第１回：International Symposium on Fluorous Technologies 2005(ISoFT'05)
July 3-6, 2005, Bordeaux, France |
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